Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
plasma sputtering — plazminis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Pulverisation cathodique — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique — Pour les articles homonymes, voir Pulvérisation. La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est une méthode de dépôt de couche mince. Il s agit d une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une… … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… … Wikipédia en Français
Plasmazerstäubung — plazminis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
plazminis dulkinimas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
плазменное распыление — plazminis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma sputtering vok. Plasmazerstäubung, f rus. плазменное распыление, n pranc. pulvérisation à plasma, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Gravure Ionique Réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
